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■ 2016年3月 ナノテク交流シンポジウム

横浜国立大学で開催された第11回ナノテク交流シンポジウム(2016年3月2日)に参加しました。

加藤大輝さんは「反応性スパッタリングを用いた酸窒化ジルコニウム薄膜の作製と評価」の題目で発表を行いました。

田辺裕亮さんは「Alドープanatase型二酸化チタン単結晶における永続的紫外光誘起キャリアと光緩和」の題目で発表を行いました。

木村勇太さんは「窒素ドープ二酸化チタンの欠陥制御」の題目で発表を行いました。

古澤将司さんは「低ダメージスパッタリングカソードを用いた酸化ジルコニウム薄膜作成」の題目で発表を行いました。

教育文化ホールで行われたショートプレゼンテーションの後、ポスター発表を行いました。

田辺君のショートプレゼン

田辺君のショートプレゼン

加藤君のショートプレゼン

加藤君のショートプレゼン

木村君が説明中

木村君が説明中

古沢君とポスター

古沢君とポスター

ナノテク交流シンポジウムは、横浜国立大学 ナノリサーチ・クラブ(NRC)が横浜市大と連携して開催する研究会です。 横浜国立大学 ナノリサーチ・クラブ(NRC)のページはこちらを参照してください。

ナノテク交流シンポジウム

会場案内

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http://www.sekiya-lab.ynu.ac.jp/